Il processo inizia con un cristallo cilindrico di silicio purificato . Seghe fetta del cristallo in wafer . I wafer sono rivestiti con un materiale fotosensibile e una luce UV traspare uno stampino di tracce di circuito , imprimendo così le tracce sul wafer . Lo sviluppo del liquido rimuove le parti esposte del materiale fotosensibile .
Doping
Acquaforte rimuove le aree esposte intorno alle tracce di circuito . Impurità chimiche note come " ioni " vengono impiantati nella cialda , rendendo le aree senza il materiale fotosensibile non conduttivo . Il materiale fotosensibile rimanente viene rimossa per esporre le zone conduttive all'interno delle aree isolate .
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